设备制造商阿斯麦首席执行官克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）表示，尽管中芯国际和华为近年来在半导体领域取得的进步令人瞩目，但与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比，这两家公司仍落后10到15年。

众所周知，即使拥有一流的DUV光刻设备，但在没有顶级EUV光刻设备的情况下，中国晶圆厂也无法以经济高效的方式与台积电的工艺技术相媲美

“如果禁止出口EUV，中国将落后西方10到15年，”富凯在接受采访时表示：“这确实会产生影响。”

尽管中芯国际据称订购了一台EUV光刻机，但由于《瓦森纳协议》，ASML从未向中国运送过其EUV产品。细节尚不清楚，但由于美国的制裁，ASML并未将机器交付给中国代工厂。不过，ASML一直在向中国运送先进的DUV光刻机，例如Twinscan NXT:2000i，这些工具能够生产5nm和7nm级工艺技术的芯片。

因此，中芯国际多年来一直采用其第一代和第二代7纳米级工艺技术为华为生产芯片。这无疑帮助中国高科技巨头抵御了美国政府的制裁。

华为及其合作伙伴意识到EUV光刻机不会进入中国，因此他们自己探索了极紫外光刻技术，目的是建立自己的光刻芯片制造工具和生态系统，这最多需要10到15年的时间。作为参考，ASML及其合作伙伴花了20多年的时间从基础工作到完成商用机器来建立EUV生态系统。考虑到1990年代初期/中期开发的许多技术都是公开的，中国公司不必从头开始开发一切。然而，等到中国半导体行业开发出低NA EUV 光刻机时，西方芯片行业将拥有高NA EUV光刻机甚至超NA EUV光刻机。

然而，西方主要担心的不是中国公司可能在15年后开发出自己的EUV光刻机，而是他们可能在未来几年内复制ASML的主流DUV光刻机。

美国政府正在向ASML施压，要求其停止在中国维护和修理其先进的DUV光刻机，这符合针对中国半导体行业的现有制裁。然而，荷兰政府迄今尚未同意这一要求。ASML旨在保留其在中国的机器的控制权，以防止敏感信息泄露的风险，如果中国公司接管维护工作以保持其芯片工厂的正常运转，就可能发生这种情况。

目前，中国公司是ASML的主要客户之一，ASML通过向中芯国际、华虹和长江存储出售DUV光刻机赚取了数十亿美元。如果中国光刻设备制造商能够制造自己的DUV光刻机，会发生什么情况尚不得而知。一方面，中国公司可以减少从ASML的购买量，但另一方面，中国公司也可以开始在中国以外销售这些工具，与ASML竞争。虽然中国公司不太可能在短期内制造出类似Twinscan NXT:2000i的光刻机，但复制一些不那么先进的光刻机可能会容易得多。

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