据台媒DigiTimes周三消息，荷兰光刻机巨头ASML正考虑推出面向中国客户的“特供版”半导体制造设备。

报道援引中国业内人士的话称，ASML可能会发布其TWINSCAN NXT:1980光刻设备的一个版本，避免中国客户落入28纳米以下工艺制程。

该中国“特供版”设备将符合最新的美国出口规则，并且可以在没有许可证的情况下运给中国客户。

如果这一“特供版”DUV光刻机成功推出，中芯国际、华虹半导体等中国芯片制造业者将可以继续在28纳米及以下成熟制程节点上生产芯片。

尽管在此情况下，这些中国半导体企业不被允许使用更先进的节点进行芯片生产。

讨论中的DUV光刻机是TWINSCAN NXT:1980Di，与TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i一起作为ASML目前在售的三款主流浸入式光刻产品。

根据ASML官方介绍，1980Di有1.35数值孔径的光学器件，分辨率<38纳米。

理论上，ASML这款DUV设备足以用于7纳米甚至更先进的半导体制程节点。

值得注意的是，该设备最初发布于2016年，被台积电用来开发其7纳米工艺技术。

今年3月，ASML曾表示，预计2000i和2050i这两款更先进光刻设备会受到荷兰政府的出口限制。

这样看来，似乎1980Di对华出口不受影响。考虑到中芯国际的大部分收入来自28纳米以下的生产节点，中国公司可能仍有兴趣采购此类光刻机。

ASML最先进的EUV光刻机已经受到限制，无法运送到中国。

6月30日，荷兰政府出台新规，要求ASML获得出口许可证，才能向中国公司销售其2000i及更先进的浸入式光刻系统。

值得注意的是，上述限制措施预计于9月起正式生效，在此之前，ASML可开始向当局提交出口许可申请。

而相比荷兰，美国政府的举措更进一步，把前者未限制的1980Di囊括其中。

根据美国最新的出口管制规则，美国公司和个人必须获得许可证，才能出口用以制造非平面晶体管结构16纳米/14纳米及以下节点的逻辑芯片的工具和技术。

这一规则也适用于从美国出口零部件的非美国公司，ASML和DUV光刻机1980Di就是这种情况。

ASML还未正式制造中国“特供版”TWINSCAN NXT设备，但如果出口规定继续限制其向中国销售先进技术，这样的举措终将成为可能。

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